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プレスリリース



量産に適した次世代光ディスク用高出力青色レーザ素子を開発
〜独自技術により高出力・低コスト化を実現〜

2004年10月05日

日本電気株式会社

NECはこのたび、HD DVDに代表される次世代光ディスク録画再生機の主要部品である青色レーザ素子の高性能化・低コスト化に貢献する、量産性に優れた独自の素子構造と作製プロセスを開発し、連続発振時で世界最高となる300mW以上の光出力を実現しました。

このたび開発した青色レーザ素子の特長は、以下の通りです。

(1) 平坦な表面の素子の内部に、屈折率の差によって光の導波モードを規定するとともに電流の絞り込みも行える窒化アルミニウムによる層を形成する埋め込み型ストライプ構造を独自に開発し、高出力特性を向上。
(2) 埋め込み結晶成長技術を用いて、発光部への加工損傷がない、量産性の優れた素子作製プロセスを開発し、低コスト化が可能に。
(3) 高い光出力時も安定的に光を導波する層構造の設計により、連続発振時も安定した出力特性を実現。

このたびの開発により、高出力特性に優れた次世代光ディスク用光源を、低コストで製造することが可能になります。

近年、次世代光ディスク市場への期待とともに、その光源として用いられる青色レーザ素子の需要の高まりが予測されています。現在、青色レーザ素子の作製には、ドライエッチングを用いて光導波部分を制御し、その領域にだけ電流を注入するという技術が用いられています。しかし、この製法では、半導体に損傷を与えることで青色レーザ素子の特性を劣化させることがあり、またレーザの高出力化のためにはより狭い光導波部分を厳密に形成する必要があるため、高出力特性と量産性・低コスト性の両立は困難とされていました。そのため、狭い幅の光導波部分を半導体にダメージを与えずに厳密に制御できる、量産性・低コスト性の高いレーザ素子作製技術の開発が求められていました。
このたびの開発は、従来から開発を進めていた埋め込み結晶成長による光導波部分の形成プロセスの改善を行い、光導波と電流狭窄の双方に有効な窒化アルミニウム膜による狭幅パターンを、結晶の成長過程および結晶自身にダメージを与えない化学的なエッチングによって実現し、量産に適した低コスト性の高い高出力の青色レーザの開発に成功したものです。

NECでは、今回の高出力特性と量産性・低コスト性に優れた青色レーザ素子が、次世代光ディスクの高性能化・高機能化に大きく貢献するものと考え、今後本成果の事業部門への開発移管を推進していく計画です。

なお、NECは今回の成果を、10月5日から9日まで幕張メッセ(千葉県・千葉市)で開催される「CEATEC JAPAN 2004」にて動態展示を行います。

以上


<本件に関するお客様からのお問い合わせ先>

NEC 研究企画部 企画戦略グループ

https://www.nec.co.jp/r_and_d/ja/cl/contact.html


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