ページの先頭です。
本文へジャンプする。

本ウェブサイトでは、JavaScriptおよびスタイルシートを使用しております。
お客さまがご使用のブラウザではスタイルが未適応のため、本来とは異なった表示になっておりますが、情報は問題なくご利用いただけます。

ここからサイト内共通メニューです。
サイト内共通メニューを読み飛ばす。
サイト内共通メニューここまで。
サイト内の現在位置を表示しています。
ホーム > ニュース > プレスリリース > 米国技術標準局の遺留指紋照合技術評価テストで1位獲得

米国技術標準局(NIST)の遺留指紋照合技術評価テストにおいて第1位の評価を獲得 ~全自動遺留処理で97.2%という高認識率を実現~

2009年4月16日
日本電気株式会社

NECは、米国国土安全省の委託を受けた米国技術標準局(NIST)(注1)が実施した「遺留指紋照合技術評価テスト」において、世界第1位の指紋照合技術を有するという評価を獲得しました。
本テストでは、世界の主要指紋照合システムベンダが参加するなか、NECは2位以下のベンダを大きく引き離し(NECの認識率97.2%、2位87.8%、3位80.0%)、指紋照合技術の優位性をあらためて実証しました。この高い認識率は、自動遺留照合のために強化した低確信度特徴点適応技術やゾーン(領域特性)照合技術などに加え、新たに開発した遺留指紋のノイズ除去技術や低品質隆線認識技術という最新の指紋画像処理技術を組み合わせることで実現したものであります。

遺留指紋とは、犯罪現場に残っている指紋(物体を触った時に残る指紋の跡)のことであり、「遺留指紋照合技術評価テスト」は、あらかじめ全自動で登録しておいた指紋画像1万人分(10万指)に対して遺留指紋画像835件を全自動で照合した際の認識率を評価したものです。
遺留指紋画像は、指紋のごく一部、あるいは、いくつかの指紋が重なっているなど、状態がよくないことが多く、完全な情報が得られない場合、指紋鑑識専門家が手作業で照合に必要な指紋の特徴情報を付加しています。この手作業の手間と時間は、犯罪捜査の障壁になっており、迅速な捜査や事件解決のため、照合の自動化ニーズが高まっております。
今回の「遺留指紋照合技術評価テスト」は、遺留指紋照合処理の自動化の可能性を検証することが主な目的です。また、テストデータはFBIを中心とする運用システムで実際にヒットした遺留指紋からランダムにサンプリングされたものです。実運用レベルのテストデータにおいてNECが97%もの高い認識率を実現したことで、遺留指紋照合処理を自動化できる分野が広まったと高く評価されております。

「遺留指紋照合技術評価テスト」は、悪質化・広域化・多様化する犯罪に対応するため、遺留指紋自動処理技術の研究開発を促進し、その早期実用化を図ることを目的としております。本テストには、国土安全保障省、司法省、FBI、国防省、U.S Visitプログラム等も協賛・支援として参画しており、評価結果は、世界的に高い注目を集めております。

NECでは1970年代から指紋照合技術の研究開発に取り組み、1982年には世界に先駆けて高い認識率を可能とするリレーション(特徴点間隆線数)を用いた照合方式を実用化しました。NIST主催の大規模な指紋関連技術評価においては、2003年の「指紋ベンダ技術評価(FpVTE2003)」を始め、2004年の「指紋切り出し技術評価(SlapSeg04)」、2007年の「指紋ベンダ固有データ技術評価(PFT Study)」等の評価においても1位を獲得するなど技術力に高い評価を得ております。こうした技術により、NECの指紋照合システムは、日本市場のほか、米国カリフォルニア州など全米24州、世界30ヶ国以上の警察・司法機関・入国管理局などにおいて活用されています。

NECはこのたびの1位獲得を推進力として、指紋関連製品の売上について、今後3年間で400億円に拡大する計画であります。
NECでは今後とも、高技術に裏付けられた指紋照合システムを全世界で提供してまいります。

なお、NISTによる「遺留指紋照合技術評価テスト」の全体評価結果は、NISTのホームページ(http://fingerprint.nist.gov/latent/NISTIR_7577_ELFT_PhaseII.pdfおよび、http://fingerprint.nist.gov/latent/)をご参照下さい。

以上

(注1)

NIST:National Institute of Standards and Technology

本件に関するお客様からの問い合わせ先

第二官公ソリューション事業部
バイオメトリクス第一グループ 穂積・諏訪多
電話:03-3798-4683
Eメール: contact-bio@bio.jp.nec.com

このページに掲載されているプレスリリースその他の情報は、発表日現在の情報であり、時間の経過または様々な後発事象によって変更される可能性がありますので、あらかじめご了承ください。

ページの先頭へ戻る

Copyright NEC Corporation. All rights reserved.