ＮＥＣと日立、ＤＲＡＭの合弁会社を設立

「ＮＥＣ日立メモリ株式会社」の資本金は、設立時に５億円、平成１２年３月末には２０億円への増資を計画しており、いずれも両社折半の出資となります。本社は東京都区内に、開発・試作拠点は神奈川県相模原市のＮＥＣ相模原事業場内に設置いたします。
新会社の社長には、徳山賢二（現ＮＥＣメモリ事業本部長）が、副社長には、安井徳政（現日立半導体グループメモリ統括本部長）が就任し、両者が同社の代表取締役となります。
新会社の従業員数は、平成１２年４月時点で約２００名を計画しておりますが、平成１３年４月には６００〜７００名に増員する予定であります。
なお、同社の従業員は、ＮＥＣと日立から当面出向いたします。

新会社は、まず、０．１３μｍプロセスの２５６ＭビットＤＲＡＭおよび５１２ＭビットＤＲＡＭなどの次世代ＤＲＡＭの共同開発に取り組み、平成１３年の製品化を目指します。また、平成１２年末をめどにＮＥＣおよび日立のＤＲＡＭ販売機能を新会社に統合し、共同開発品および両社の既存ＤＲＡＭ製品を新たな統一ブランドで、新会社を経由して販売してまいります。
生産に関しては、新会社は、平成１３年からＮＥＣのＤＲＡＭ生産拠点であるＮＥＣ広島（広島日本電気株式会社、本社：広島県東広島市、社長：皆川勝治）と日立のＤＲＡＭ生産拠点であるＨＮＳ(Hitachi Nippon Steel Semiconductor Singapore Pte. Ltd.、本社：シンガポール、社長：片山勝彦)を主力拠点とし、生産を委託する形で、生産機能の取り込みを行うほか、ＮＥＣ・日立両社の他の生産拠点も活用してまいります。これにより、新会社は、開発から生産・販売まで一貫した機能を持つ会社となります。

ＮＥＣと日立は、本年６月にＤＲＡＭビジネスに関する包括的な提携に合意いたしました。今回の新会社の設立は、その合意に基づいたものであり、世界のＤＲＡＭ市場に確固たる基盤を築こうとする、両社の強い決意の表れであります。
新会社の設立により両社は、（１）ＮＥＣと日立のトップレベルの技術を融合し、技術開発の飛躍的なスピードアップを図り、（２）両社のシナジー効果により、縮小版の早期投入や回路面での工夫によるチップ面積の縮小を通じてコスト競争力のある製品を実現するとともに、（３）統一ブランドの導入により、市場でのプレゼンスを高め、ＤＲＡＭ市場におけるリーディングポジションを確保してまいります。

なお、新会社の概要は、別紙をご参照ください。

以　上

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